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  • 인증현황

公司?史

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  • 2000년도
    • 2000.08为紫外线设备的真空喷射方法开发
    • 2001.02为了plasma蚀刻方式的设备开发
    • 2003.06双面同时真空沉着喷漆设备专利
    • 2004.01多层涂层机器制作及安装(手机窗,镜片)
    • 2004.07涂层系统+光束功率兼用设备开发制作及安装
    • 2004.10手机外带金属类配件多层涂层开发完成(SUS,镁 等)
    • 2006.08S.I.TECH成立
    • 2009.02(株)S.I.T法人成立
    • 2009.09直插式溅射机器制作(ITO及触摸专用)
    • 2010.02中国东莞SIT电子有限公司成立
  • 1990년도
    • 1991.11韩国离子镀成立
    • 1992.01高真空多层膜喷射系统开发
    • 1998.08溅射,EVA兼用方式系统开发
    • 1999.03切断手机电子波喷漆方法开发
    • 1999.06T.M.C(NOKIA)韩国工厂开发产品核准交付